工業分野では酸化アルミニウム (Al2O3)高温耐性の絶縁セラミックスの開発は、現代の技術をあらゆる分野に応用することに満足しています。「高精度のセラミックス」で使用される最も一般的なものは、セラミックパーツ」の製品 間違いなく「ハイアルミナセラミック」（ つまり高純度アルミナセラミック）です。
工業用アルミナ (Al2O3)デバイス セラミックとしても知られる絶縁セラミックは、電子機器のコンポーネントの取り付け、固定、保護に使用され、通電導体の絶縁支持体として、またさまざまな集積回路基板のセラミックとして使用されます。 。
工業用アルミナ (Al2O3)絶縁セラミックスは、誘電率が小さく、誘電損失が低く、機械的強度が高く、高い絶縁耐力、絶縁抵抗、熱伝導率を持っています。一般的に使用される工業用絶縁セラミックスには、ハイアルミナ磁器、タルク磁器などが含まれます。
エレクトロニクス産業の発展、特に厚膜、薄膜回路、マイクロ波集積回路の出現により、多くの工業用セラミックや基板のパッケージングに対する要求が高まっています。酸化ベリリウム磁器、窒化ホウ素磁器などの新種現在、工業用絶縁セラミックス、窒化アルミニウム工業用セラミックス、炭化ケイ素工業用セラミックスの研究開発を行っており、共通の特徴は高い熱伝導率です。工業用絶縁セラミックス：ハイアルミナセラミックスは、α-アルミナを主結晶相とし、アルミナを75％以上含有する工業用セラミックスです。優れた電気機械特性を有しており、工業用絶縁セラミックとして最も広く使用されています。ハイアルミナ磁器（高純度アルミナセラミックス）は、融点が高く、硬度が高く、機械的強度が高いですが、機械的強度温度は1000℃を超えます。
比較的大きな熱膨張係数の増加により、熱衝撃安定性が低下します。超高周波および高出力電気真空装置用の絶縁セラミック部品、真空コンデンサ用のセラミックシェル、マイクロ波管エネルギー伝送窓用のセラミック部品、各種セラミック基板の製造に使用できます。
